Kolejne spotkanie w ramach projektu Rzecznicy Talentów
Już 17 marca 2015r. o godz. 15.00 zapraszamy na kolejne spotkanie w ramach projektu Rzecznicy Talentów edycja II. Tym razem będziemy rozmawiać o wynalazkach i o patentach, tytuł spotkania pt. „Chroń innowacje! Ochrona wynalazków w kraju i na świecie”.
Miejsce spotkania: Warszawa, Szkoła Biznesu Politechniki Warszawskiej, ul. Koszykowa 79, sala nr 300
Seminarium poprowadzi Piotr Godlewski, ekspert ds. własności przemysłowej, rzecznik patentowy.
Podczas spotkania uczestnicy dowiedzą się: Jakie rozwiązania techniczne podlegają ochronie? W jaki sposób można efektywnie chronić wynalazki? Co to jest patent? Czym są i do czego służą badania patentowe? Jaki jest przebieg procedury patentowej? Jak można czerpać zysk z wynalazku? Wykład zostanie poparty przykładami innowacyjnych rozwiązań chronionych patentami
Program spotkania:
- Definicja wynalazku
- Wynalazek a wzór użytkowy, podobieństwa i różnice
- Gdzie chronić wynalazki?
- Procedury zgłoszeniowe w Polsce i na świecie
- Na co zwrócić uwagę, by uzyskać patent?
- Przykłady polskich i światowych wynalazków, studium przypadku
- Badania patentowe, cenne źródło wiedzy dla naukowca
- Podsumowanie, dyskusja
Serdecznie zapraszamy!
Rejestracja poprzez stronę Fundacji JWP: http://jwp-fundacja.pl/dzialalnosc/seminarium/chron_innowacje_ochrona_wynalazkow_w_kraju_i_na_swiecie.html
Tagi: talent, spotkanie, patent
wstecz Podziel się ze znajomymi
03-03-2023
Najdokładniejsze systemy satelitarnego transferu czasu
Nie zawsze zegar atomowy działa lepiej niż kwarcowy.
03-03-2023
Ponad połowa chorych z SARS-CoV2 cierpi na długi covid
Przez długi czas może mieć takie objawy jak zmęczenie.
03-03-2023
Uniwersytet Warszawski będzie kształcić kadry dla energetyki jądrowej
Przekazał Wydział Fizyki UW.
Recenzje